Characterization and RF design aspects in advanced CMOS technologyCharacterization and RF design aspects in advanced CMOS technology Μεταπτυχιακή Διατριβή 2014-03-242011elΚεφ. 1: Πειραματική διαδικασία -- Κεφ. 2: Ευλινησία -- Κεφ. 3: Τάση κατωφλίου -- Κεφ. 4: Κανονικοποιημένες διαγωγιμότητες -- Κεφ. 5: Slope factor -- Κεφ. 6: Συχνότητα μοναδιαίου κέρδουςhttp://creativecommons.org/licenses/by/3.0/Characterization and RF design aspects in advanced CMOS technologyChania [Greece]Library of TUC2014-03-24application/pdfhttp://www.library.tuc.gr/artemis/MT2012-0026/MT2012-0026.pdffree Μακρής Νικόλαος Bucher Matthias Πολυτεχνείο Κρήτης Metal oxide semiconductor field-effect transistors--Design Metal oxide semiconductor field-effect transistors--Mathematical models Metal oxide semiconductors, Complementary Nanotechnology